Niederdruckgasstrom für optimale Gaszufuhr
DSMC - Direktsimulation Monte Carlo
Die Simulation von Niederdruckgasverteilungen in Prozesskammern erfordert spezielle numerische Verfahren und eine hohen Rechenaufwand. Die DSMC Methode wird bei VON ARDENNE bereits in der Konstruktion und Design-Phase eingesetzt, um die beste Gasverteilung zu erreichen.
Plasmaverfahren und Magnetfeld für hervorragendes Schichtwachstum
PICMC - PARTICLE IN CELL MONTE CARLO
Innovative Dünnschichttechnologie zeichnet sich durch Schichthomogenität, hohe Targetausnutzung, schichtoptimierte Prozessgestaltung und andere technologische Anforderungen aus. Bei VON ARDENNE, kommen Plasma- und Magnetfeldsimulationen zum Einsatz, um die entscheidenden physikalischen Prozess zu analysieren und zu verbessern, die für das Schichtwachstum verantwortlich sind.
Optische Simulation für hervorragende Schichteigenschaften
RAY TRACING UND DÜNNSCHICHTEIGENSCHAFTEN
Optische Simulationen sind weit verbreitet, um das effizienteste Design für VON ARDENNE Komponenten zu finden, die mit Blitzlampen zum Tempern und Strukturierungstechnik ausgestattet sind. Darüber hinaus werden die Schichtparameter durch Simulationsmethoden optimiert, so dass die optischen Eigenschaften den Anforderungen entsprechen.
Finite-Elemente-Simulationen für beste Beschichtungsergebnisse
MECHANISCH, THERMISCH, CFD, MULTIPHYSIKALISCH
FE-Simulationen für die Analyse und Optimierung verschiedener physikalischer Prozesse in Kombination mit langjähriger Erfahrung sind wesentliche Voraussetzungen für VON ARDENNE Beschichtungssysteme, um die hohen Qualitätsanforderungen unserer Kunden zu erfüllen.